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机械剥离氧化?硅基底二硒化?/div>
报价９span>面议
| 品牌９/td> | 先丰纳米 |
| 产地９/td> | 江苏 |
| 关注度： | 3780 |
| 型号９/td> | 101050 |
核心参数
目数９span>10 mmx10 mm
品级９span>一?/span>
产品介绍
| 货号 | CAS叶/td> | 编号 | 包装 | 参数 |
| 101050 | 7440-33-7 | XFG23 | 1 监/td> | 基底尺寸: 10 mmx10 mm |
产品名称
中文名称:机械剥离氧化?氧化硅基底二硒化?/span>
英文名称９/span>Mechanical exfoliation WSe2 on SiO2/Si
性质
形态：薄膜
参数
基底：氧化硅/硄/span>
基底尺寸?0 mmx10 mm
氧化层：300nm
WSe2面积?gt;10 μm2
应用
先丰纳米**推出机械剥离制备的二硒化钨，该类材料具有缺陷少，优异的光学性质，可以研究层数和荧光效应，此外，由于保持了原有晶格结构，所以该类材料是制备器件的理想材料、/span>
问商宵/div>
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工商信息
企业名称
江苏先丰纳米材料科技有限公司
企业类型
信用代码
913201065628687681
法人代表
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