产品关键词概述：油性石墨浆料研磨设�?nbsp; 油� 石墨浆料研磨� 油性石墨浆料乳化机 油性石墨浆料胶体磨 石墨烯高剪切研磨�?nbsp; IKN研磨设备 德国高转速研磨机

石墨烯浆料分为两种，以水为介质分散叫水性，以NMP为介质分散叫油性，石墨烯根据石墨烯原料的不同，一般含量在2.5-5的固含量之间打成浆料，影响石墨烯分散或者剥离的因素有很多，设备的选型，分散剂的使用，固含量的把握

石墨烯有单层、双层、多�?具体如下９�/span>

单层石墨烯（Graphene）：指由一层以苯环结构（即六角形蜂巢结构）周期性紧密堆积的碳原子构成的一种二维碳材料、�/span>

双层石墨烯（Bilayer or double-layer graphene）：指由两层以苯环结构（即六角形蜂巢结构）周期性紧密堆积的碳原子以不同堆垛方式（包括AB堆垛，AA堆垛，AA‘堆垛等）堆垛构成的一种二维碳材料、�/span>

少层石墨烯（Few-layer）：指由3-10层以苯环结构（即六角形蜂巢结构）周期性紧密堆积的碳原子以不同堆垛方式（包括ABC堆垛，ABA堆垛等）堆垛构成的一种二维碳材料、�/span>

多层或厚层石墨烯（multi-layer graphene）：指厚度在10层以�?0nm以下苯环结构（即六角形蜂巢结构）周期性紧密堆积的碳原子以不同堆垛方式（包括ABC堆垛，ABA堆垛等）堆垛构成的一种二维碳材料、�/span>

石墨烯（Graphenes）：是一种二维碳材料，是单层石墨烯、双层石墨烯和多层石墨烯的统称、�/span>

石墨烯主要制备方法：
制备石墨烯常见的方法为机械剥离法、氧化还原法、SiC外延生长法和化学气相沉积法（CVD）、�/span>


1.机械剥离法是利用物体与石墨烯之间的摩擦和相对运动，得到石墨烯薄层材料的方法。这种方法操作简单，得到的石墨烯通常保持着完整的晶体结构，但是得到的片层小，生产效率低、�/span>

2. 氧化还原法是通过将石墨氧化，增大石墨层之间的间距，再通过物理方法将其分离�?**后通过化学法还原，得到石墨烯的方法。这种方法操作简单，产量高，目前国内使用氧化，还原法制作石墨烯浆料的，如：宁波墨
稀、东莞鸿纳、第六元素等企业＋�/span>
3.SiC 外延法是通过在超高真空的高温环境下，使硅原子升华脱离材料，剩下的C原子通过自组形式重构，从而得到基于SiC衬底的石墨烯。这种方法可以获得高质量的石墨烯，但是这种方法对设备要求较高

4.CVD 也叫气相沉积法是目前***有可能实现工业化制备高质量、大面积石墨烯的方法。这种方法制备的石墨烯具有面积大和质量高的特点，国内用气相沉积法制作石墨烯浆料的� 重庆墨稀、常州第六元素等企业

CMD2000研磨机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音�?3DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行、�/p>

咨询热线９�/span>13795214885贾清�?nbsp; 微信同手机号公司有样机可供客户购前实验，欢迎广大客户来我司参观指导！

CMD2000研磨机有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质、�/p>

CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品、�/span>

**级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向、�/span>

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因� 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用、�/span>