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纳米氧化锌粒径介�?-100 nm之间，是一种面�?1世纪的新型高功能精细无机产品，使其在陶瓷、化工、电子、光学、生物、医药等许多领域有重要的应用价值，具有普通氧化锌所无法比较的特殊性和用途、�/p>

纳米级粉末的分散，普遍会出现物料团聚的现象，导致粒径变大。IKN研磨式分散机，将胶体磨和分散机一体化结合，先研磨后分散机，解决团聚问题！

CMD2000系列研磨式分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供�?P�?G�?M�?F�?SF等五种乳化头供客户选择（�br/>

咨询热线９�/span>13795214885贾清�?nbsp; 微信同手机号公司有样机可供客户购前实验，欢迎广大客户来我司参观指导！

CMD2000系列研磨式分散机的特点：

�?nbsp; 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

�?nbsp; 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽、�/p>

�?nbsp; 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

�?nbsp; 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向、�/p>

�?nbsp; 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求、�/p>

CMD2000系列设备选型�?/strong>

型号	流量 L/H	转逞�/p> rpm	线速度 m/s	功率 kw	�?出口连接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150

1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据、�/p>

2.处理量取决于物料的粘度，稠度�?终产品的要求、�/p>

3.如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制、�/p>

4.本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为�?
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