为什么购�?/span>AccuSizer颗粒计数系统＞�/span>

有太多理由让您的下一�?/span>粒度分析�?/span>选择AccuSizer®系统

什么是ACCUSIZER系统

使用单颗粑�/span>光学传感＇�/span>SPOS（�/span>技术的颗粒计数器和粒度分析仪、�/span>具有多种配置可逈�/span>，但所有系统都包括SPOS传感器，脉冲高度分析仪（或计数器）和样品流通池，用于通过传感器传输样品。许夙�/span>样品流通池自动将样品稀释至最佳浓度，以获得最准确的结果。在多达1024�?/span>粒径通道中报呉�/span>粒径分布信息、�/span>

国�/span>1.0.5 � 10um之间区分6个粒径峰

它不是什么？

这不是像激光衍射那样需�?/span>RI等物理特性和复杂的反卷积算法的集成技术。粒子直接定量并一次计数一个，提供比光散射技术更准确和更高分辨率的结果、�/span>

这种技术的主要好处是什么？

•准确�?/span>

–�/span>直接测量每个颗粒

•浓度

–�/span>出具准确的颗粑�/span>/mL结果

•分辨玆�/span>

–�/span>无分市�/span>增宽

�将多个峰与基线区刅�/span>（图1（�/span>

�检浊�/span>少量的尾�?/span>颗粒

国�/span>2.LE400传感�?/span>/计数器图

在许多行业中＋�/span>尾部颗粒检测至关重要。如果主�?/span>之外的几个大颗粒对产品性能有害，为什么不使用对大颗粒讠�/span>数（LPC）具有最高灵敏度的技术呢＞�/span>AccuSizerSPOS系统在检浊�/span>少量尾部颗粒分布方面优于激光衍射、�/span>AccuSizerSPOS系统集成了许多独特的技术，包括９�/span>

•自动稀释�?/span>一步稀释和多步稀釉�/span>、�/span>

•传感器技�?/span>

–�/span>消光+散射LE传感�?/span>

–�/span>聚焦光束FX Nano传感�?/span>，检测下陏�/span>低至150 nm

•根据您的流程定制的在纾�/span>系统＇�/span>AccuSizerMini FX系统，图3（�/span>

目前�?/span>正在使用ACCUSIZERSPOS系统＞�/span>

AccuSizerSPOS系统是检浊�/span>CMP研磨涱�/span>尾部颗粒的行业标准。制药行业使�?/span>AccuSizer系统检浊�/span>脂肪乳中的大颗粒＇�/span>PFAT5）�?/span>USP<788> 测试和蛋白质聚集研究。喷墨墨氳�/span>等等，不胜枚举，在全球范围内皃�/span>各行各业有数千台安装、�/span>

�?. AccuSizer Mini FX系统、�/p>

ACCUSIZER SPOS系统精确�?/span>＞�/span>

创建粒度分布的最准确方法是单独测量每个颗粒、�/span>AccuSizer系统对通过传感器检测区域的每个颗粒进行粒径检测和计数，并一次构建一个颗粒的分布。这将创建准确、高分辨率的结果。图4显示了通过45μm筚�/span>罐�/span>的样品。蓝色的线是AccuSizerSPOS系统测试结果＋�/span>兵�/span>清楚地显示了尾端断崖弎�/span>的分布，而红艱�/span>的线�?/span>激光衍射结枛�/span>，其显示了广的粒径分布曲纾�/span>，包括不存在皃�/span>>100μm皃�/span>颗粒、�/span>

�?.AccuSizer系统一次构建一个颗粒的分布，提供准确的结果、�/p>

一项针对微电子行业发表的研穵�/span>1显示亅�/span>AccuSizerSPOS系统与其他技术相比，其灵敏度和分辨率的表现。在二氧化硅、氧化物CMP研磨液体中加�?/span>�?/span>1μm SiO2颗粒，测试不同技术在识别凹�/span>1μmSiO2颗粒能力的表�?/span>。据报道＋�/span>AccuSizer系统的检测限丹�/span>0.07 mg/mL，耋�/span>激先�/span>衍射技术的结果＇�/span>C）为100 mg/mL，相�?/span>1428X（图5）、�/span>

国�/span>5.SiO2颗粒检测研究、�/span>

颗粒浓度衍射分布

国�/span>6a.AccuSizer系统寸�/span>加标亅�/span>CMP的测诔�/span>结果、�/span>

粒度分布

国�/span>6b.激光衍尃�/span>寸�/span>加标CMP的测诔�/span>结果、�/span>

�?/span>2013年进行的一项研究中，我们用1.36μm PSL标准品加栆�/span>臲�/span>二氧化硅CMP研磨涱�/span>，以确定检浊�/span>�?/span>尾部大颗粑�/span>所需的浓度。当尅�/span>3.4μL PSL注入250 mL原液CMP研磨涱�/span>中时＋�/span>AccuSizerFX＇�/span>POU（�/span>系统可以检测第二个群体�?/span>（图6a（�/span>、�/span>2

国�/span>6b显示亅�/span>采用激光衍射仪的方弎�/span>首次检浊�/span>加标峰的数据＋�/span>360μL加标�?/span>4.3 mL原液CMP研磨涱�/span>中。这表明SPOS和激光衍射法皃�/span>检测限差异丹�/span>615X、�/span>另外请注意，当激光衍射结果最终检测到加标峰的存在时，它拓宼�/span>1.36μm PSL标准分布、�/span>

引用

1Nichols, K., et. al., Perturbation Detection Analysis: A Method for Comparing Instruments That Can Measure the Presence of Large Particles in CMP Slurry, report published by BOC Edwards, Chaska, MN

2Detecting Tails in CMP Slurries,Entegris, August 2019 https://www. entegris.com/content/dam/product-assets/accusizerspossystems/appnote-detecting-tails-cmp-slurries-10527.pdf