SemiChem在线浓度监测�?/span>

Entegris在设计和生产用于半导体制造工艺中的化学机械平坦化（CMP）浆料和配方清洁化学品的高精度分析仪器的有丰富的经验。我们的技�?/span>旨在确保复杂混合化学品的精确一致性，并在CMP和配方清洁工艺中实现高产量�

我们� SemiChem Advanced Process Monitor＇�strong>SemiChem 在线浓度监测�?/strong>）是集自动取样、分析和报告关键过程的定量化学浓度的化学监测系统。全面的在线化学盐�/span>测可实时校正浆料成分，从而稳定控制工艺生�?/span>条件。该系统可提供分类化学浓度数据。当立即显现时，可以快速纠正可能对产品质量产生负面影响的变化，有助于满足更高产品产量的要求、�/span>

应用领域

在全球范围内，我们安装了�?000套SemiChem APM系统，用于控制金� CMP 浓度。它�?/span>控制CMP过氧化物的可靠的中心工具，并被证昍�/span>在微电子环境中的所有湿化学应用中都具有较好的性能，包括：

·铜，钨，阻挡层和金属CMP

·制定清洁

·DSP+

·湿法蚀刻，氮化物蚀�

·平底蚀刻，食人鱼蚀�

·高频

·废水

功能与特炸�/span>

经验证的标准电化学技�?/span>	提供行业精确的监控，以保证过程化学成分和完整�?/span>
	提供化学浓度数据＋�/span>使浆�?化学分配系统能够提供准确的化学浓�?/span>
在线的，接近实时检测的糺�/span>�	检测挥发性化学物质的�?/span>艺偏差，防止产品质量损坏
	将实验室技术过渡到在线＋�/span>实现快速准确的在线控制
坚固耐用的工业设讠�/span>	维持至少8500小时平均工作时间
	可经受严峻的工业环境

规格

分析方法	电位测定法，标准加成法，光度测定泔�/span>
电位测量的准确�?	显示值的±0.2%
标准添加的准确�?	显示值的±2.0%
电位测量精度*	±0.2%相对误差
标准添加精度*	±2.0%相对误差
测量时间	>5分钟/次（取决于应用程序）
校准间隔	启动�?*
样品消耖�/span>	<5 mL/欠�/span>
进样野�/span>	0.05-5 mL（取决于应用（�/span>
进样温度	**93°C�?00°F（�/span>
耗水野�/span>	<1000 mL/分析
样品进样/排样	<207 kPa�?0 psi），0.5 L/min
	1/4" OD扩口接头�?" FPT安全壳联轴器
去离子水	138�?76 kPa�?0�?0 psi（�/span>
	2.0�?分钟
	外径 1/4" 扩口接头
CDA	414-552 kPa�?0-80 psi（�/span>
	1/4" 外径快速接夳�/span>
排水	工艺�?/4“NPT重力排水� 机柜�?/2“NPT重力
电源	110/220 VAC�?0/60 Hz�?/0.5 A现场可切捡�/span>
废气	外径1 7/8" @ 17 CFM

标准功能	可选功胼�/span>
·四个4-20 mA模拟输出 ·八个可编程继电器 ·以太网和RS232串行 ·彩色触摸� ·单个测量单元 ·综合试剂储存 ·单个采样� ·一�? mL数字滴定� ·多传感器输入	·多个采样� ·额外�? mL数字滴定� ·附加传感� ·安全联锁装置 ·试剂微量检浊�/span>

尺寸