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Heidelberg海德堡光刻机DWL66+
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德国海德堡Heidelberg激光直写光刻机DWL 66+

科研用激光直写系绞/p>

具有多种直写模块，实现不同精度直写需汁/p>

能于结构上进行灰度曝先/span>

DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器，适用于小批量掩模板制作和直写需求。该系统的功能和灵活性使其成为Life Science Advanced Packaging MEMS Micro-Optics Semiconductor以及所有其他需要微结构应用的刻研工具。DWL 66+的客户群包括全球200多所顶尖大学和研究机构，许多系统功能是与这些机构合作开发，及先进技术不断改进以增加高分办率：DWL 66+?小结构尺寸为300 nm，提供了极高的分辨率，优于或等于研发领域中强大的光学光刻系统、/p>

基本的DWL 66+包含创造和分析微结构所需的所有功能。它可以用于掩模板制作或直写在任何涂有光刻胶的平坦材料上，多样化选择可提高灵活性，使系统适用于更多应用领域、/p>

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