德国Raith EBPG5150 电子束光刻机

详细介绍

EBPG5150使用�?55mm大小的样品台，采用跟EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品，包括多片散片以及完整的硅片�

高束流密度，热场发射电子枪可以在20�?0�?00kV之间切换155mm的平�?/p>

*小曝光特征尺寸小�?nm

高速度曝光，可采用50�?00MHz的图形发生器

在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，**可以�?mm

GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境

多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需汁�/span>

可选的系统增强升级

EBPG5150可以选择不同的升级选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让全世界的高校等研究类用户也可以使用这款非常先进、高自动化的电子束光刻系统、�/span>

EBPG5150 应用

�� 电子束曝光用于制作GaAs T型器仵�/span>

�� 微盘谐振�?/span>

�� 开口环谐振�?/span>

EBPG5150 产品详情

主要应用９�/strong>

�� 100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构

�� 高速电子束直写

�� 批量生产，如化合物半导体器件

�� 防伪标识

电子光学柱技术：

�� EBPG

�� 电子杞�/span>

�� 100 kV

样品台：

�� 覆盖完整6英寸硅片大小

�� 标配2工位自动化上斘�/p>

(10工位可�?