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EBPG150电子束光刻机
EBPG150电子束光刻机的图?/></a></div></div></div> <div class=
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EBPG5150使用?55mm大小的样品台，采用跟EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品，包括多片散片以及完整的硅片

00001.高束流密度，热场发射电子枪可以在20?0?00kV之间切换

00002.155mm的平?/span>

00003.*小曝光特征尺寸小?nm

00004.高速度曝光，可采用50?00MHz的图形发生器

00005.在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，**可以?mm

00006.GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境

00007.多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需汁/span>

可选的系统增强升级

EBPG5150可以选择不同的升级选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让全世界的高校等研究类用户也可以使用这款非常先进、高自动化的电子束光刻系统、/span>

EBPG5150 应用

电子束曝光用于制作GaAs T型器仵/span>

微盘谐振?/span>

开口环谐振?/span>

EBPG5150 产品详情

主要应用９/span>

100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构

高速电子束直写

批量生产，如化合物半导体器件

防伪标识

电子光学柱技术：

EBPG

电子杞/span>

100 kV
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