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Raith新一代超高分辨电子束光刻机Voyager
Raith新一代超高分辨电子束光刻机Voyager的图?/></a></div></div></div>         <div class=
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德国
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德国Raith新一代超高分辨电子束光刻机Voyager

高速且价格合理的电子束光刻机实现精确的曝光效果

对于工业界和学术界所有关注速度和高分辨的电子束曝光应用,我们推荐您选择VOYAGERTM这款专业电子束光刻系统、/p>

Raith非常重视这款具有吸引力的在使用寿命期间具有高性价比、新开发的、创新的eWRITE体系结构、/span>

系统的硬件和软件被一致设计为自动曝光操作,先进的高性能图形发生器和电子光学系统优化设计并协同一致、/span>

系统可实?英寸样品的高速曝光。系统的稳定性是非常关键的指标,可保证大面积均匀曝光。该系统外部采用环境屏蔽罩,即使在稍差的实验室环境下,仍然能确保系统具有非常好的热稳定性,提高系统对外界环境的容忍度、/span>

超高分辨率曝光系绞/span>

00001.?初设计到样品制备完成,实现高速样品加工,提高产量

00002.智能设计:设备占地面积小,且集成环境屏蔽?/span>

00003.创新的、未来安全型系统架构

00004.专业的电子束曝光系统,可实现每小旵/span>1cm2的高速曝光,高性价毓/span>

eWrite技?/span>

Raith新推出的eWrite技术结合了专业电子束光刻的光学系统和创新的图形发生器设计,该技术适用于研发及批量生产的所有工作、/span>

VOYAGER 应用

HSQ胶上制作亙/span>7nm线条

SU8胶上制作1x1 cm2菲涅尔透镜,曝光时间为53分钟,图为菲涅尔透镜中心区域

PMMA双层胶上制作150nm T型栅结构

ZEP520胶上制作1x1 cm2光栅结构,曝光时间小亍/span>2小时

高速度模式'/span>40nA束电流下曝光160um大结构)和高分辨模式'/span>0.4nA束电流下曝光10nm细小结构)自动切捡/span>

ZEP520胶上制作光子晶体波导结构

VOYAGER 产品详情

主要应用:

高速直冘/span>

衍射光学元件

防伪元件

批量加工化合物半导体器件

样品?

6 移动范围

Z方向移动范围?/span>

电子枪技?

eWrite

电子

50 kV

独特直写模式:

traxx 长线条无写场拼接曝光模式

periodixx周期结构无写场拼接曝光模弎/span>

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