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小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控?/span>SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案、/span> |
传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案、/span> Microwriter ML 3是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面、/span> |
产品特点 | |
Focus Lock自动对焦功能
Focus lock
技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过
Z
向调整和补偿,以保证曝光分辨率、/span>
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光学轮廓?/span> Microwriter ML3配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层+/span>MEMS等前道结构的形貌探测与套刻、/span>Z?*精度100 nm,方便快捶/span>、/span> |
标记物自动识?/span> 点击‛/span>Bulls-Eye“/span>按钮+/span>系统自动?/span>显微镜图像中识别光刻标记。标?/span>物被识别后,尅/span>自动将其移动到显微镜中心位置、/span> |
别直写前预检?/span>
软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图彡/span>位置。通过实时调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确、/span> |
简单的直写软件 MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行、/span> |
Clewin掩模图形设计软件
?
可以读取多种
图形设计
文件'/span>DXF CIF GDSII 筈/span>(/span>
?
可以
直接
读取
TIFF BMP
筈/span>图片格式
?
书写范围只由基片尺寸决定
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产品参数 |
为了更好满足客户需求,同时节省客户采购成本,第三代Microwriter分为三个型号,基本型,增强型,旗舰型9/span>
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应用案例 | |
直写分辨?m |
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直写分辨?.6m
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