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英国Durham小型台式无掩膜光刻机Microwriter ML3
小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案、/span>
传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案、/span>
Microwriter ML 3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面、/span>
产品特点
Focus Lock自动对焦功能
Focus lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿+/span>
以保证曝光分辨率、/span>
光学轮廓
Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻、/span>
Z?*精度100 nm,方便快捷、/span>
标记物自动识?/strong>
点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记、/span>
标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置、/span>
别直写前预检?/strong>
软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度,
直到设计图形按要求与有结构重合,保证直写准确、/span>
简单的直写软件
MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计?/span>
基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行、/span>
Clewin 掩模图形设计软件
?可以读取多种图形设计文件(DXF CIF GDSII 等)
?可以直接读取TIFF BMP 等图片格弎/p>
?书写范围只由基片尺寸决定
直写分辨?m
直写分辨?.6m
微电极制夆/strong>
微结构制夆/strong>
微流通道制备
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