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日本JEOL电子束光刻机JBX-9500FS 
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产品详情

日本JEOL电子束光刻机JBX-9500FS 

JBX-9500FS是一?00kV圆形束电子束光刻系统,兼具世?*水平的产出量和定位精度,**能容?00mm的晶圆片?英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产、/span>

产品规格9/strong>

电子?/strong>

ZrO/W 肖特基型

描画方式

圆形束, 矢量扫描 步进重复弎/span>

加速电厊/strong>

100kV

样品尺寸

样品尺寸 (可以安装): **300mm的晶圆片 **6英寸的掩模版 任意尺寸的的微小样品、/span>

**场尺寷/strong>

1000m1000m

样品台移动范図/strong>

260mmX240mm

样品台控制单兂/strong>

0.15nm?#955;/4096(/span>

套刻精度

?#177;11nm

场拼接精?/strong>

?#177;10nm (场尺寸?000m1000m(/span>

写场内位置精?/strong>

?#177;9nm(场尺寸?000m1000m(/span>

定位DAC

20佌/span>

扫描速度

** 100MHz

产品特点9/span>

JBX-9500FS是一?00kV圆形束电子束光刻系统,兼具世?*水平的产出量和定位精度,**能容?00mm的晶圆片?英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产、/span>

此外,由于具?00MHz?快扫描速度,场尺寸?000m1000m时的套刻精度达到11nm、场拼接精度?#177;10nm、写场内位置精度?#177;9nm,是兼具世界**水准产出率和位置精度?00kV圆形束光刻系统、/span>

由于采用的位置偏转DAC?0位,扫描DAC?4位,能获?.25nm的扫描步距,分辨率更高,描画数据增长1nm,可以更忠实地再现描画数据、/span>

*快达?00MHz的高速化扫描速度,保证了大电流描画时的扫描步距很短,因而能提高对精度要求极高的图形描画的产出量、/span>

由激光束控制(LBC)的0.15nm?#955;/4096)的*小定位单位及高分辨率,达到了世界**水准的位置精度、/span>

本公司独自的自动校正功能(自动补偿功能),实现了可信赖的长时间稳定地描画。自动补偿可以根据时间(任意的)、场和图形进行分别设定,非常适合于周末及休假等无人值守等情况下的长时间描画、/span>

该系?*能容?00mm的晶圆片?英寸的光掩模版,适合于纳米压印、光子器件、通信设备等各种领域的研发及生产。采用材料卡匣传送系统(选配),*多可装载10个卡匣、/span>

利用微间距控制程序(场尺寸微调程序)可以制作DFB激光器等的啁啾光栅、/span>

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