证:工商信息已核宝br /> 访问量:279248
德国Sentech离子刻蚀与沉积机 200 RIE
Cost-effectiveness
RIE plasma etcher Etchlab 200 combines parallel plate plasma source design with direct load.
成本效益9/strong>RIE等离子体蚀刻机Etchlab 200将平行板等离子体源设计与直接负载相结合、/span>
可升级性:根据其模块化设计,Etchlab 200可以升级为更大的抽油机、真空负载锁和额外的气体管道、/span>
SENTECH控制软件9/span>用户友好功能强大的软件包括模拟GUI,参数窗口,食谱编辑器,数据日志,用户管理、/span>
Etchlab 200 RIE 等离子体蚀刻机是一种将RIE平行板电极设计的优点与直接负载的低成本设计相结合的直接负载等离子体蚀刻机系列。Etchlab 200具有简单快速的样品加载功能,从零件?00a?雖m?00a?雖m直径的晶圆片直接加载到电极或载体上。Etchlab 200的设计特点是灵活性、模块化和占用空间小。大型诊断窗口位于顶部电极和反应器可以很容易地容纳森泰克激光干涉仪或OES和RGA系统。椭圆度计端口可用于使用森泰克原位椭圆度计进行过程监测、/span>
Etchlab 200可配置用于处理与晶圆片直接加载兼容的材料,包括但不限于硅和硅化合物、复合半导体、介质和金属、/span>
Etchlab 200由先进的森泰克控制软件操作,使用远程现场总线技术和非常友好的通用用户界面、/span>
Etchlab 200
RIE plasma etcher
Open lid
For up to 200?mm wafers
Diagnostic windows for laserinterferometer and OES
Ellipsometer ports optionally available
RIE等离子体刻蚀朹/span>
打开盖子
适用?00毫米晶圆
激光干涉仪和OES诊断窗口
椭圆偏振计端口可逈/span>
Etchlab 200 with loadlock
带有loadlock的Etchlab 200
RIE etcher with loadlock
For 4?inch up to 8?inch wafers
Carriers for pieces and smaller wafers
Chlorine etching chemistry
Larger pumping unit
带有loadlock的RIE蚀刻器
适用?英寸?英寸的晶圆片
片材和较小晶圆片的载佒/span>
氯腐蚀化学
更大的抽油机
Etchlab 200 300
RIE plasma etcher
Open lid
For up to 300?mm wafers
Diagnostic windows for laser interferometer and OES
RIE等离子体刻蚀朹/span>
打开盖子
可用?00毫米晶圆
激光干涉仪和光学系统诊断窗叢/span>
- 推荐产品
- 供应产品
- 产品分类
- PICOSUN P-200S Pro ALD生产型原子层沉积朹/a>
- 芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200
- 日本JEOL粉末装置TP-99010FDR
- 德国Moeller光学?静态接触角?界面测量仪SL150
- 芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200
- N-TEC全自动片机晶圆贴BW 243FA
- 德国Sentech集成多腔等离子刻蚀和沉积机
- 日本JEOL能谱仪,JED-2300,JED-2300F
- 日本JEOL能谱仪JED-2300T
- 德国laVision BioTec光片照明显微镜Ultramicroscop
- 日本JEOL热场发射扫描电子显微镜JSM-7900F
- P-1000 Pro ALD芬兰PICOSUN生产型原子层沉积朹/a>
- 德Iplas微波等离子化学气相沉积MPCVD
- 英国Denton高真空蒸发器平台DV-502B
- 德Neaspec真空太赫兹近场光学显微镜HV-THz-neaSNOM
- 荷兰TSST脉冲激光沉?激光分子束外延系统LMBE