产品详情

牛津Oxford离子束刻蚀机Ionfab 300 IBE

离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果、�/span>

。多模式功能

。能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成

。单晶圆传送模式或集群式晶圆操佛�/p>

。双束流配置

。更低的表面薄膜粗糙�?/p>

。更佳的批次均匀性和工艺重复�?/p>

。准确终点监� —� SIMS，发射光

产品特点:

�� 质量薄膜� ——超低污柒�/span>

�� 产量高，紧凑的系统体积设� ——运行成本低

�� 已获�?*的高速衬底架（高�?000RPM）设计，并配备了白光光学监视器（WLOM）——更为准确的实时光学薄膜控制

�� 配置灵活 ——适于先进的研究应�?/span>

�� 灵活的晶圆操作方� —� 直开式、单晶圆传送模式或者带机械手臂的盒对盒模式

应用:

�� 磁阻式随机存取存储器（MRAM（�/span>

�� 介电薄膜

�� III-V族光电子材料刻蚀

�� 自旋电子�?/span>

�� 金属电极和轨遒�/span>

�� 超导佒�/span>

�� 激光端面镀膛�/span>

�� 高反射（HR）膜

�� 防反射（AR）膜

�� 环形激光陀螺反射镜

�� X射线光学系统

�� 红外（IR）传感器

�� II-VI族材斘�/span>

�� 通信滤波�?/span>