认证信息
高级会员
2平/div> 称：
深圳市蓝星宇电子科技有限公司
证：工商信息已核宝br /> 访问量：279351
证：工商信息已核宝br /> 访问量：279351
手机网站
扫一扫，手机访问更轻杽/div>
产品分类
产品简今/div>
产品详情
Nano-master 离子束刻蚀溅射镀膜一体机 NOC-4000
NANO-MASTER NOC 系列光学镀膜系统提?**的原子级清洗、抛光以及光学镀膜技术、/span>
光学样片放置于一个腔体种进行原子级清洗和抛光处理，之后自动传送到第二个腔体中进行光学镀膜，这个过程无需间断真空。系统也可以独立使用其中的一个腔体，每一个都可以实现各自的自动上/下载片功能
紧凑型设计，占地面积仅为 46”x44”，不锈钢立柜、/span>
工艺过程通过触摸 PC LabView 软件，可实现全自动的 PC控制，具有高度的可重复性，且具有友好的用户界面、/span>
系统具有完整的安全联锁，提供四级密码授权访问保护，含９/span>
。操作者权限：运行程序
工艺师权限：添加/编辑和删除程庎/span>
工程师权限：可独立控制子系统，并开发程庎/span>
。服务权限：NM 工程师故障诊断和排除
真空系统包含涡轮分子泵和机械泵，极限真空可达 5 x10-7Torr。涡轮分子泵与腔体之间的直连设计，系统可获得**的真空传导率，基本可以达 15 分钟可达到工艺真空，8 小时达到腔体极限真空。腔体压力调节通过 PC 自动控制涡轮速度而全自动调节，快速稳定
?*个腔体中通过离子束可达到原子级的清洗，离子源安装在腔体顶部，离子源配 2KV?00mA 的电源。样品台配套 4”或 6”基片夹具、水冷，并可对着离子束流实现+900C ?900C 旋转。系统配套气动遮板，使得工艺运行前稳定离子束流
根据应用需要可以升级离子源，以支持更大尺寸晶圆片的处理、/span>
第二个腔体可以根据应用需要配 ALD、PECVD、磁控、电子束蒸镀、热蒸镀等镀膜
膜厚监控仪校准后可实现原位膜厚测量，可以工艺时间或工艺膜厚为工艺终点条件，系统支持设定目标膜厚，当达到设定的目标膜厚时全自动结束工艺。水冷保护晶振夹具，膜厚和沉积速率以及晶振寿命可显示，可存储高 100 个膜厚数据
系统的两个腔体均配套单片 Auto L/UL，可实现自动进样、对准、出样，在不间断工艺真空情况下连续处理样片。Load Lock腔体带独立真空系统和真空计，通过 PC 全自动监控。两个腔体之间可以互相传送样片。整个过程计算机全自动控制
应用９/strong>
。光学镀膛/span>
Sputterint 溅射
。IBAD 离子束辅助沉?/span>
。离子束刻蚀清洗
离子束辅助反应性刻蚀
红外镀膛/span>
。表面处琅/span>
设备特点９/strong>
。RF 射频偏压样品?/span>
膜厚原位监测
极限真空 5 x 10-7Torr
**的真空传导率设计，具有快速真空能劚/span>
PC 全自动控制，超高的精度及可重复?/span>
高质量薄屁/span>
。原子级的超净表面
原子级清洗和抛光
LabView 软件 PC 控制系统
自动?下载牆/span>
两个腔体可以分别独立使用并实现自动上下载牆/span>
两腔体之间自动传送，双向传送支?/span>
菜单驱动，密码保抣/span>
安全互锁
占地面积 46”D x 44”W
系统可选：
向下/向上溅射
。共溅射
。DC RF 以及脉冲电源
。离子束辅助沉积
电子束源
。热蒸镀
。等离子溏/span>
ALD 沉积 PECVD 沉积
- 推荐产品
- 供应产品
- 产品分类
- PICOSUN P-200S Pro ALD生产型原子层沉积朹/a>
- 芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200
- 日本JEOL粉末装置TP-99010FDR
- 德国Moeller光学?静态接触角?界面测量仪SL150
- 芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200
- N-TEC全自动片机晶圆贴BW 243FA
- 德国Sentech集成多腔等离子刻蚀和沉积机
- 日本JEOL能谱仪，JED-2300，JED-2300F
- 德国laVision BioTec光片照明显微镜Ultramicroscop
- P-1000 Pro ALD芬兰PICOSUN生产型原子层沉积朹/a>
- 日本JEOL能谱仪JED-2300T
- 英国Denton高真空蒸发器平台DV-502B
- 荷兰TSST脉冲激光沉?激光分子束外延系统LMBE
- 德Neaspec真空太赫兹近场光学显微镜HV-THz-neaSNOM
- 德Iplas微波等离子化学气相沉积MPCVD
- 芬兰PICOSUN高级原子沉积机P-300B Advanced ALD