脉冲激光沉�?激光分子束外延系统

产品描述：荷兰TSST公司提供专业的脉冲激光沉积系统和激光分子束外延系统、�/span>

荷兰Twente Solid State Technology BV（TSST）公司专注于为用户提供定制化的脉冲激光沉积系统（PLD），以及相关薄膜制备解决方案，公司具�?0多年研究与生产脉冲激光沉积系统的经验、�/span>

TSST与世�?*的纳米与微系统技术研究中心之一荷兰Twente大学MESA+ Institute保持着密切合作，开发出各种脉冲激光沉积技术中需要使用的核心技术、�/span>

脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜、�/span>

激光分子束外延系统（LMBE（�/strong>，是在PLD的基础上发展起来的外延薄膜生长技术、�/span>

在高氧气压力环境下实现RHEED原位监控，曾是RHEED分析的一个重要难题，TSST**个提出差分抽气的方式实现高压环境下RHEED原位监控---TorrRHEED，TSST是TorrRHEED的发明人，在系统制造和RHEED的使用，以及结果分析方面，有丰富的经验、�/span>

选件

脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等、�/span>

应用领域９�/strong>

单晶薄膜外延（SrTiO₃，LaAlO₃（�/span>

压电薄膜（PZT，AlN，BiFeO₃，BaTiO₃（�/span>

铁电薄膜（BaTiO₃，KH₂PO₄（�/span>

热电薄膜（SrTiO₃（�/span>

金属和化合物薄膜电极（Ti，Ag，Au，Pt，Ni，Co，SrRuO₃，LaNiO₃，YZrO₂，GdCeO₂，LaSrCoFeO₃（�/span>

半导体薄膜（Zn(Mg)O，AlN，SrTiO₃（�/span>

高K介质薄膜（HfO₂，CeO₂，Al2O₃，BaTiO₃，SrTiO₃，PbZrTiO₃，LaAlO₃，Ta₂O₅（�/span>

超导薄膜（YBa₂CuO_7-x，BiSrCaCuO（�/span>

光波导，光学薄膜（PZT，AlN，BaTiO₃，Al₂O₃，ZrO₂，TiO₂（�/span>

超疏水薄膜（PTFE（�/span>

红外探测薄膜（V₂O₅，PZT�