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芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200
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芬兰PICOSUN标准型原子层沉积机R-200

技术参?/strong>

。衬底尺寸和类型 50-200 mm /单片

?56 mm x 156 mm太阳能硅牆/p>

?D 复杂表面衬底

。粉末与颗粒

。多孔,通孔,高深宽比(HAR)样?/p>

。工艺温 ?0 - 500 C 可选更高温?/p>

。基片传送选件 :气动升降(手动装载 ,预真空室安装磁力操作机械手(Load lock (/p>

。前驱体 液态、固态、气态、臭氧源 ?根独立源管线?多加?个前驱体溏/p>

。重 ?50 kg

。尺寸: (W x H x D) 取决于选件

-*?46 cm x 146 cm x 84 cm

-**189 cm x 206 cm x 111 cm

。选件 :PICOFLOW?扩散增强器,集成椭偏仪,QCM RGA,N2 发生器,尾气处理器,定制 计,手套箱集成(用于惰性气体下装载(/p>

。验收标 :标准设备验收标准为 Al2O3工艺

PICOSUN? R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表?*的均匀性,包括**挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品、/p>

我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的,易更换的前驱源系统,能够在晶圆?D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度*小的薄膜层 ?基本的PICOSUN? R系列配置中可以选择多个独立的,完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源、/span>

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