芬兰PICOSUN 生产型原子层沉积朹�/strong>P-200S Pro ALD

技术参�?/strong>

衬底尺寸和类型：

�?0 � 200 mm /单片

�?56 mm x 156 mm 太阳能硅牆�/p>

�?50 mm x 150 mm 显示面板

工艺温度９�/strong>50 - 500 ��C � 可选更高温�?/span>

基片传送选件９�/span>

。气动升降（手动装载（�/p>

。半自动装载，用PICOPLATFORM?200集群系统实现

�?5片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM?200集群系统实现

标准９�/strong>SEMI S2 认证（认证中（�/span>

前驱体：

、�/span>液态， 固态， 气态， 臭氧源， 等离子体�?�?路气体）９�/p>

。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务

�?根独立源管线�?多加�?2个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线（�/span>

重量�?90 kg

尺寸�?W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm

可选件：集群工具， PICOFLOW? 扩散增强器， 集成椭偏仪， QCM� RGA� N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务、�/span>

验收标准：。标准设备验收标准为 Al2O3 工艺＋�/p>

。其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如９�/p>

- 不均匀�?/p>

- 颗粒物含野�/p>

- 重金属污柒�/p>

- 电学性能

一个PICOPLATFORM? 200真空集群系统由两台PICOSUN? P-200S ALD设备组成，带等离子体源PICOPLASMA?、�/strong>