芬兰PICOSUN原子层沉积机P-300S Pro ALD

技术参�?/strong>

衬底尺寸和类垊�/strong>�?*300mm晶圆/单片

工艺温度９�/strong>50 - 500 ��C

基片传送选件９�/span>

、�/span>半自动装载，用单片Load lock与磁力操纵杆实现

�?5片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM? 300集群系统实现

标准：SEMI S2认证

前驱佒�/strong>９�/span>

。液态，固态，气态，臭氧溏�/p>

。等离子体（仅供200mm晶圆使用�?�?路气体）

。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务

�?条独立源管线�?多加�?个前驱体源（*�?2个前驱体源，加上plasma管路�?根独立源管线（�/span>

重量�?20 kg

尺寸９�/strong>(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm

选件９�/strong>集群工具，PICOFLOW?扩散增强，N2发生器，尾气处理，定制设计，与工厂软件连接服务、�/span>

验收标准９�/span>

。标准设备验收标准为Al2O3工艺＋�/p>

。其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如９�/p>

- 不均匀�?/p>

- 颗粒物含野�/p>

- 重金属污柒�/p>

- 电学性能