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芬兰PICOSUN高级原子沉积机P-300B Advanced ALD
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芬兰
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芬兰PICOSUN高级原子沉积朹strong>P-300B Advanced ALD

技术参?/strong>

。基片尺寸和类型 300mm晶圆10?批次(标准间距)

?00mm晶圆25+2?批次(标准间距)

工艺温度?0 - 500 C

基片传送选件:、/strong>气动升降(手动加载)

。半自动装载,用线性装载器实现

?2片晶圆盒式全自动装载,用真空批量Load lock实现

前驱体:。液态,固态,气态,臭氧溏/p>

。前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务

?根独立源管线?多加?个前驱体溏/span>

重量 9/strong>400 + 300 kg

尺寸9/strong>(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm

选件 9/strong>PICOFLOW? 扩散增强,N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务、/span>

验收标准 9/strong>标准设备验收标准 Al2O3 工艺

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