芬兰PICOSUN高级型原子层沉积朹�strong>P-300 Advanced ALD

衬底尺寸和类型：

�?56 mm x 156 mm硅片50�?00�?批次（双�?背对背）

。高�?00 mm x 300 mm玻璃基板10�?0�?批次（双�?背对背）

。大批量�?D产品（例如：钟表部件，珠宝，硬币，医疗植入部件，机械部件等）

。粉末与颗粒

。Roll-to-roll� 衬底**� 300 mm

。多孔，通孔，与高深宽比（HAR）样�?/span>

工艺温度９�/strong>50 - 500 ��C

基片传送选件９�/strong>

。气动升降（手动装载（�/p>

。半自动装载，用线性装载器实现

。全自动转载，用工业机器人实�?/span>

前驱� ９�/strong>

、�/strong>液态、固态、气态、臭氧源

。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务

�?根独立源管线�?多加�?个前驱体溏�/span>

重量９�/strong>400 + 300 kg

尺寸 ９�/strong>(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm

选件９�/strong>PICOFLOW? 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务、�/span>

验收标准 ９�/strong>标准设备验收标准� Al2O3 工艺