芬兰PICOSUN生产型原子层沉积朹�strong>P-1000 Pro ALD

技术参数：

衬底尺寸和类垊�/strong>

�?56 mm x 156 mm硅片800�?000�?批次（双�?背对背）

。高�?00 mm x 600 mm玻璃基板30�?0�?批次（双�?背对背）

。大批量�?D产品（例如：钟表部件，珠宝，硬币，医疗植入部件，机械部件等）

。多孔，通孔，高深宽比（HAR）样�?/span>

工艺温度９�/strong>50 - 500 ��C

基片传送选件９�/strong>

。气动升降（手动装载，带叉车forklift cart（�/p>

。全自动转载，用工业机器人实�?/span>

前驱体：

。液态、固态、气态、臭氧源

。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务

�?根独立源管线�?多加�?2个前驱体溏�/span>

重量９�/strong>2000 kg

尺寸９�/strong>(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm

选件９�/strong>PICOFLOW? 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务、�/span>

验收标准９�/strong>标准设备验收标准� Al2O3 工艺