英国Oxford OpAL 开放式样品载入原子沉积（ALD）设夆�/strong>

紧凑型开放式样品载入原子层沉积（ALD）系绞�/span>

OpAL提供了专业的热ALD设备，可以简单明了的升级使用等离子体，使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ALD、�/span>

开放式样品载入热ALD，集成等离子体技�?/p>

现场升级到可使用等离子体

从小晶片�?00mm大晶牆�/span>

适用于学术、产业、研发的热和/或等离子体化学产品，可用于：

氧化物： HfO2� Al2O3� TiO2� SiO2� ZnO� Ta2O5

氮化物：TiN� Si3N4

金属� Ru� Pt

ALD应用举例９�/strong>

纳米电子�?/p>

高k栅极氧化�?/p>

存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区

有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层

钝化晶体硅太阳能电池

应用于微流体和MEMS的高保形涂层

纳米孔结构的涂层

生物微机电系绞�/p>

燃料电池

直观性强的的软件提高性能

使用与牛津仪器的值得信赖的Plasmalab ?产品家族相同的软件平台， OpAL的程序驱动、多用户级别、PC2000TM控制的软件易于操作且可为快速ALD做相应修改、�/span>