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德Iplas微波等离子化学气相沉积MPCVD
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Iplas 微波等离子化学气相沉?/strong>

详细介绍

德国 IPLAS 微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD) 通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体、/p>

MPCVD是世界公认的制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国iplas公司** CYRANNUS? 等离子技术解决了传统等离子技术的局限,可以?0mbar到室压范围内激发高稳定度的等离子团?*限度的减少了因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引起的等离子体状态的变化,从而确保单晶生长的持续性,为合成大尺寸单晶金刚石提供有力保证、/span>

化学机理概要9/strong>

碳氢化合物:提供沉积材料

氢气:生成sp3?/span>

氧:对石墨相/sp2键侵蚀

惰性气体:缓冲气体,或生成纳米晶体、/span>

适用合成材料9/strong>

大尺寸宝石级单晶钻石

高取向度金刚石晶佒/span>

纳米结晶金刚矲/span>

碳纳米管/类金刚石碳(DLC(/span>

多种等离子发生器选择9/strong>

频率?.45GHz 915MHz:

功率?-2kW 1-3kW 3-6kW?-6kW?-30kW

等离子团直径?0mm 145mm 250mm 400mm

工作其他范围?-1000mBar

其他应用9/strong>

MPCVD同样适用于平面基体,或曲面颗粒的其它硬质材料如Al2O3,c-BN的薄膜沉积和晶体合成。德国iplas公司凭借几十年在等离子技术领域的积累,可以为用户提供高度定制的设备,满足用户不同的应用需要、/p>

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