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美国 Nano-master ALD/PEALD原子层沉积机NLD-4000

NLD-4000是一款独立式计算机控制的ALD系统，全自动工艺控制并包含完整的安全连锁功能，能够沉积半导体应用中的氧化物和氮化物（比如AlN� GaN� TaN� TiN� Al2O3� ZrO2� LaO2� HfO2），支持太阳能和MEMS等众多领域的应用、�/span>

系统包含一�?3”的铝质反应腔体，具有加热腔壁和气动升降顶盖，可一键式实现顶盖的开�?闭合，便于放取片。随系统配套手套箱，可以支持*多七路加热或冷却�?0cc容器用于前驱体或者反应物，并集成了快速脉冲传输阀用于气体脉冲输出。没有反应掉的前驱体将被加热过滤器所捕捉，该过滤器安装在腔体排风口、�/p>

工艺程序、温度设定值、气体流量、抽真空卸真空工序，以及传输管路的吹扫均通过LabView软件全自动控制、�/p>

选配项包含自动上下片（系统占地面积不变）、远程平面ICP等离子源用于等离子增强ALD（平面ICP的构造确保小的反应腔体容积，这实现更快的循环时间），以及涡轮分子泵用于更低的极限真空、�/span>

特点:

**低于1?的均匀�?/p>

** 优化�?3”阳极氧化铝腔体

** 小反应腔体容积确保快速的循环时间并提高产胼�/p>

** **可支�?”的基片

** 400��C基片加热�?/p>

** 随系统配套前驱体手套箰�/p>

** 做多支持七路50cc前驱体容�?/p>

** 300L/Sec抽速的磁悬浮分子泵练�/p>

** 极限真空可达5x10-7Torr

** 快速脉冲气体传输阀

** 大面积过滤器用于捕捉未反应的前驱佒�/p>

** 高深宽比结构的涂覅�/p>

** 全自动计算机控制，菜单驱�?/p>

** LabVIEW友好用户界面

** EMO和安全互�?/p>

** 占地面积�?4”x44”带封闭面板的柜体对超净间很理想

选配:

** 下游式平面ICP远程等离子源用于PE-ALD工艺

** RF离子源用于无需要求超高密度的PE-ALD工艺

** 自动上下牆�/p>

** 增加额外的前驱体

应用:

** 高K介质

** 疏水性涂覅�/p>

** 钝化屁�/p>

** 高深宽比扩散阻挡层的铜连�?/p>

** 微流控应用的保形性涂覅�/p>

** 燃料电池中诸如催化层的单金属涂覆