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美Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-4000

产品特点９�/span>

SWC-4000兆声晶圆清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及Z先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含�?*的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能、�/span>

SWC-4000兆声晶圆清洗机应用：

。带图案或不带图案的掩模版和晶圆牆�/p>

。Ge� GaAs以及InP晶圆片清洖�/p>

。CMP处理后的晶圆片清洖�/p>

。晶圆框架上的切粒芯片清洖�/p>

。等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗

。带保护膜的分划版清洖�/p>

。掩模版空白部位或接触部位清洖�/p>

。X射线及极紫外掩模版清洖�/p>

。光学镜头清洖�/p>

。ITO涂覆的显示面板清洖�/p>

。兆声辅助的剥离工艺

特点９�/span>

。支�?2"直径的圆片或9"x9"方片

。独立系绞�/p>

。无损兆声，试剂，毛刷清洗及旋转甩干

。微处理机自动控刵�/p>

。化学试剂滴胶单兂�/p>

。溶剂与酸分离排庞�/p>

。热�?/p>

�?0"D x 26"W 的占地面�?/span>

选配项：

。掩模板或晶圆片夹具

。臭氧清洖�/p>

。PVA软毛刷清洖�/p>

。高压DI清洗

。氮气离子发生器