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美Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-3000
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美Nano-master 兆声晶圆清洗机SWC-3000

产品特点9/strong>

SWC-3000兆声晶圆清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及Z先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含?*的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能、/span>

应用9/span>

。带图案或不带图案的掩模版和晶圆牆/p>

。Ge GaAs以及InP晶圆片清洖/p>

。CMP处理后的晶圆片清洖/p>

。晶圆框架上的切粒芯片清洖/p>

。等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗

。带保护膜的分划版清洖/p>

。掩模版空白部位或接触部位清洖/p>

。X射线及极紫外掩模版清洖/p>

。光学镜头清洖/p>

。ITO涂覆的显示面板清洖/p>

。兆声辅助的剥离工艺

特点9/span>

。台式系绞/p>

。无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩幱/p>

。支?2"直径的圆片或9"x9"方片

。微处理机自动控刵/p>

。IR红外?/span>

选配项:

。掩模版或晶圆片夹具

。PVA软毛刷清洖/p>

。化学试剂清?CDU)

。氮气离子发生器

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