深圳市蓝星宇电子科技有限公司
首页 > 产品中心 > 半导体行业专用仪 > 美Nisene等离子开封机PlasmaEtch
产品详情
美Nisene等离子开封机PlasmaEtch
美Nisene等离子开封机PlasmaEtch的图?/></a></div></div></div>         <div class=
参考报价:
面议
品牌9/dt>
关注度:
389
样本9/dt>
暂无
型号9/dt>
产地9/dt>
美国
信息完整度:
典型用户9/dt>
暂无
索取资料及报件/a>
认证信息
高级会员 2平/div> 称: 深圳市蓝星宇电子科技有限公司
证:工商信息已核宝br /> 访问量:294245
手机网站
扫一扫,手机访问更轻杽/div>
产品分类
产品简今/div>
产品详情

美Nisene PlasmaEtch 等离子开封机9/strong>

主要原素9/strong>

。优化开封芯牆/span>

。开封处理程序快逞/span>

。高刻蚀率及低成?/span>

。符合环保要汁/span>

优点9/strong>

。对铜线和银线无作伤宲/span>

。开封处理程序快逞/span>

。高刻蚀率及低成?/span>

。符合环保要汁/span>

Nisene 是一家专业从事失效分析开封设备的美国公司,有着三十多年自动开封研发制造历史 作为自动塑封开封技术的世界***,Nisene 提供全面的产品,方法和技术支持来满足所有半导体器件的开封要求 公司不断提供创新的,高质量的产品来满足不断变化的半导体器件失效性分析领域内的需求、/span>

Nisene取得三项****!

Nisene在三种不同开封设备产?制程中取得三?*** 包含:

CuProtect Process - U.S. Patent 8?45?43 B2 - Decapsulation with an applied voltage.

TotalProtect Process - U.S. Patent 9?43?73 B2 - Decapsulation with an applied voltage and cooling system.

PlasmaEtch Process - U.S. Patent 9?48?27 B2 - Microwave - induced plasma using plasma discharge tube.

  • 推荐产品
  • 供应产品
  • 产品分类