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日本JEOL场发射电子显微镜JEM-3200FS
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产品详情

日本JEOL场发射电子显微镜JEM-3200FS

JEM-3200FS场发射电子显微镜配备?*加速电压为300kV的场发射电子枪(FEG)和镜筒内置?#937;型能量过滤器,能为广泛的研究领域提供各种全新的解决方案、/span>

产品规格9/strong>

物镜极靴*1

超高分辨UHR

高分辨率HR

高倾斜HT

高衬度HC

分辨玆/span>

 点分辨率

晶格分辨玆/span>

0.17nm

0.1nm

0.19nm

0.1nm

0.21nm

0.1nm

0.26nm

0.14nm

能量分辨玆/span>

0.9 eV(零损失FWHM(/span>

加速电厊/span>

300kV?00kV?00kV*2

 *小步镾/p>

 能量位移

100V

**3?00V (?.2V为步?

电子?/span>

 发射佒/span>

ZrO/W(100) 肖特基式

 亮度

?108A/cm2? sr

 真空?/span>

310-8Pa

 探针电流

探针直径?nm时,电流?.5nA以上

稳定?/span>

 加速电厊/span>

210-6/min

 物镜电流

110-6/min

 过滤器透镜电流

110-6/min

物镜

 焦距

2.7 mm

3.0 mm

3.5 mm

3.9 mm

 球差系数

0.6 mm

1.1 mm

1.4 mm

3.2 mm

 色差系数

1.5 mm

1.8 mm

2.2 mm

3.0 mm

 *小焦距步镾/span>

1.0 nm

1.4 nm

1.5 nm

4.1 nm

束斑尺寸

 TEM 模式

2 5 nm

2 5 nm

7 30 nm

 EDS 模式

0.4 1.6 nm

0.5 2.4 nm

4 20 nm

 NBD 模式

0.4 1.6 nm

0.5 2.4 nm

-

 CBD 模式

0.4 1.6 nm

0.5 2.4 nm

-

电子束衍尃/span>

 衍射?2)

1.5 t 20 mrad

-

 取出觑/span>

10

-

倍率

 MAG 模式

2?00 1?00?00

2?00 1?00?00

1?00 1?00?00

 LOW MAG 模式

100 3?00

 SA MAG 模式

8?00 600?00

6?00 500?00

5?00 500?00

视野

10eV时狭缝宽?0mm(底片?

2eV时狭缝宽?5mm(底片?

相机长度

 选区电子衍射

200 2?00 mm

250 2?00 mm

400 3?00 mm

EELS 散射

 能量选择

 在能量选择狭缝三/span>

0.85 m/eV 300 kV

 底片三/span>

100 220 m/eV 300kV

样品宣/span>

 样品移动范围 (XY/Z)

2mm/0.2mm

2mm/0.4mm

2mm/0.4mm

2mm/0.4mm

 样品倾斜 (X/Y)

25/25*3

35/30*3

42/30*3

38/30*3

EDS*4

 固体觑/span>

0.13 sr

0.09 sr

 取出觑/span>

25

20

产品特点9/strong>

JEM-3200FS场发射电子显微镜配备?*加速电压为300kV的场发射电子枪(FEG)和镜筒内置?#937;型能量过滤器,能为广泛的研究领域提供各种全新的解决方案、/span>

镜筒内置?#937;型能量过滤器(omega 过滤?

镜筒内置?#937;型能量过滤器内置于成像透镜系统,能容易地获得能量过滤像和能量损失谱,同时还能获得与传统电子显微镜同等的放大倍率范围。此外?#937;型过滤器的电子光学系统在设计?*程度地减少了图像畸变,出厂前还将剩余一点的畸变做了*后的修正。JEM-3200FS还采用了高灵敏度的相机系统及图像处理系统(选配件),可以构建元素面分布系统及能量损失谱系统、/span>

新型控制系统

电子枪、电子光学系统、测角台、抽真空系统等电子显微镜基本功能的系统化,实现了高稳定、高性能的控制系统。图像画面和用户界面 采用Windows ?*1,可以进行编程操作和附件的集中控制、/span>

新型测角?/strong>

系统化的新型测角台内置压电陶瓷驱动机构,使高倍率下的样品移动更加精确?2.

*1 : 注意事项:Windows是微软公司在美国和其他国家的注册商标、/p>

*2 : 仅有压电元件包括在基本单元中,压电元件的电源为选配件、/span>

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