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日本JEOL IB-19530CP截面抛光?/div>
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IB-19530CP 截面样品制备装置

为了满足市场多样化的需求,IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台,通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化、/span>

主要技术指栆/span>

离子加速电厊/span>

2?kV

刻蚀速率

500m/h

承载样品?*尺寸

11mm(宽度)10mm(长度)2mm(厚度)

样品摆动功能

刻蚀过程中,样品自动摆动30 (**:第4557130?

自动加工开始模弎/span>

达到设定的压力值后可自动开始加工、/span>

间歇加工模式

脉冲控制离子束流照射,可以抑制加工时产生的热量、/span>

精抛加工模式

主加工结束后,自动开始精抛加工、/span>

*产品外观及技术规格可能未经预告而有所变更、/span>

产品特点9/strong>

为了满足市场多样化的需求,IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台,通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化、/span>

根据需要可以选择不同的功能性样品座,不仅能截面刻蚀,还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等、/span>

高通量

通过配备高速离子源和利用自动开始加工功能,不需花费时间等待加工开始,短时间内就能刻蚀、/span>

自动加工程序

快速加工和精抛加工可以程序化,短时间内就能制备出高质量的截面。此外,利用间歇加工模式,还能抑制加工温度、/span>

设置简協/span>

功能性样品座采用模块化设计,在光学显微镜(另售)下也能调整加工位置、/span>

多用途样品台

通过选择各种功能性样品座,不仅能截面刻蚀,还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等、/span>

高耐久性遮光板

遮光板的耐久性是旧机型的3倍左右,能支持高速率加工和长时间刻蚀、/span>

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