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日本JEOL截面样品制备装置IB-19520CCP
IB-19520CCP在加工过程中利用液氮冷却,能减轻离子束对样品造成的热损伤。冷却持续时间长、液氮消耗少的构造设计。在装有液氮的情况下,也能将样品快速冷却、恢复到室温,并且可以拆卸。配有传送机构,在隔离空气的环境下能完成从加工到观察的全过程、/span>
产品规格9/strong>
离子加速电厊/span> |
2 8 kV |
离子束直徃/span> |
500 um( FWHM) |
研磨速率 |
500 um(两小时的平均值? kV、硅材质换算、突出量:100 um(/span> |
样品架冷却达到的温度 |
-120 ℂ/span> |
样品冷却持续时间 |
8小时以上 |
制冷箱容野/span> |
?卆/span> |
承载样品?*尺寸 |
11mm(? 8mm(宽?#215; 3mm(厚(/span> |
样品台移动范図/span> |
X轴:6mm、Y轴:2.5mm |
固定样品方法 |
夹式 |
样品加工摆角 |
30 |
加工观察用相机的倍率 |
?0?00倍(6.5寸显示器上) 机械泴 150 mm(宽 427 mm(长 230 mm(高)、约16 kg |
空气隔离系统 |
转移舰/span> |
空气隔离泔/span> |
将舱内设定成氩气气氛,盖上转移舱盖子,将样品封在舱里、/span> |
操作方法 |
触控屏?.5寸显示器 |
使用气体 |
氩气(用质量流量控制器控制流量) |
压力测试 |
潘宁真空讠/span> |
主抽真空系统 |
涡轮分子泴/span> |
辅助抽真空系绞/span> |
机械泴/span> |
尺寸、重野/span> |
主机:约670mm (? 720mm(? 530mm(?、约73kg 机械泵:?50 mm (? 430 mm(? 230 mm(?、约16kg |
选配仵/span> |
大型旋转样品架(IB?1550LSRH)、(IB?1550LSRH) 基座样品 (IB?1560MBSH) 大型样品架(IB-11570LSH) 喷碳样品架(IB-12510CCH(/span> |
电源 |
单相100?20 V10%?0/60 Hz?.6 kVA |
接地纾/span> |
独立地线(100 以下) |
氩气 |
使用压力?.150.05 MPa(1.0 2.0 kg/cm2) 纯度99.9999%以上(氩气、气瓶及调压器由客户自备) 金属配管连接叢JISB0203 RC1/4 |
室温 |
15?5 ℂ/span> |
湿度 |
60%以下 |
产品特点9/strong>
冷却的效枛/strong> 样品:镀锌钢松/span>
可提?00m/h?KV/2小时的平均值)的研磨速率、/span>
通常加工(无冷却)时,铁和锌的接合面上能够观察到间隙,而冷却加工时则没有间隘/span>
使用温度控制系统(选配件)冷却 样品:硅晶片接合
常规加工由于热损伤造成粘合剂变形,出现了很大的间隙 -150 ℃时,冷却过度,能观察到胶粘剂和硅晶片研磨面的接合面上出现了间隙,但通过温度控制冷却则没有间隙、/span>
合理利用间歇加工、冷却功能和温度控制冷却功能可支持各种样品的制备
进程监控功能
截面加工状态可通过CCD相机实时监控,倍率还可调整、/span>
防止充放电的喷镀功能
备有离子束溅射功能(选配项)
可以喷涂颗粒感良好的薄涂层、/p>
*适合于象EBSD等需要花样识别等情况、/span>
平面离子减薄样品枵/strong>
以小角度的离子束低角度照射样品,达到清除表面污垢、平滑表面等效果、/p>
另外也非常适合于选择性蚀刻、/span>
截面样品制备单元
安装在平面离子减薄样品架上使用。该单元可用于在旋转样品的同时进行离子束加工、/p>
可以用来制备象多孔质材料、粉末、纤维等容易出现加工条纹的样品的截面、/span>
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