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德国Nanoscrib双光子微?D打印朹strong>Quantum X
重新定义精密加工、/span>
全新的量子X是世界上基于双光子灰度光?2GL)的工业系统。我们的设备结合了灰度光刻机?*性能和纳米筛网首创的双光子聚合技术的精确性和灵活性。该无掩模光刻系统实现了二维?.5D的衍射和折射显微光学的快速制作、/span>
Quantum X软件实时控制和监控打印作业，并执行自动系统校准。用?机器交互由专用触摸屏或远程控制界面支持、/span>
关键特?/span>
2.5 d高速精密加?/span>
超光滑的表面?*的形状精度设计自由度，亚微米分辨率完整和超快控制体素尺寸自动化过程，例如校准＋/span>
作业执行和监觅/span>
广泛的基材树脂组合，通过作业队列触摸屏和远程控制界面，连续执行各种打印作丙/span>
TechnicalSpecifications |
|
Printing technology９/span> |
Two-Photon Grayscale Lithography (2GL) |
Minimum XY feature size９/span> |
160 nm typical; 200 nm specified* |
Finest XY resolution９/span> |
400 nm typical; 500 nm specified* |
Finest vertical steps９/span> |
10 nm quasi-continuous topographies possible |
Minimum surface roughness Ra９/span> |
10 nm* |
Scan speed９/span> |
250 mm/s* |
Area printing speed９/span> |
3 mm2/h typical for diffractive optical elements |
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