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日立Hitachi离子溅射仪MC1000
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样本9/dt>
暂无
型号9/dt>
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日本
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日立Hitachi 离子溅射 MC1000

特点9/strong>

。采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件

。可处理较厚或较大的样品(选配?

。记忆功能可存储常用加工条件

规格9/strong>

项目 说明
放电9/span> 类型9/span> 磁控二极管放电型(电场垂直于磁?
电极组成9/span> 反向平行?嵌入磁铁)
电压9/span> ** 0.4 kV DC(直流可变)
电流9/span> ** 40 mA DC
喷镀速率*1(**)9/p>

[条件]9/p>

压力? Pa

放电电流?0 mA

标靶与样品表面之间的距离?0 mm

Pt ?选配?9/span> 15 nm/min
Pt-Pd ?选配?9/span> 20 nm/min
Au ?选配?9/span> 35 nm/min
Au-Pd ?选配?9/span> 25 nm/min
样品尺寸9/span> **直径9/span> 60 mm
**高度9/span> 20 mm
机械泵: 135/162 l/min (50/60Hz)
靶材*29/sup> Pt Pt-Pd (8:2) Au Au-Pd (6:4)
电源要求9/span> 单相 100 V AC (10%) 15 A (50/60 Hz) 3-针插头线?3 m)
尺寸9/span> 宽度9/span> 450 mm
长度9/span> 391 mm
高度9/span> 390 mm
重量9/span> 主机:约 25 kg

机械泵: 28 kg

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