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Model 6020S紫外光刻朹/div>
Model 6020S紫外光刻机的图片
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美国
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OAI的面板级掩模光刻 Model 6020S

用于FOPLP型号6020S -半自动化或自动化+/span>实现500mm x 500mm晶圆尺寸的FO-PLP加工.

OAI’s Panel Level Mask Aligner for FOPLP Model 6020S - Semi or Automated

Enabling FO-PLP Processing at 500mm x 500mm Wafer Sizes

OAI掩模对准器,不同的印刷方弎/span>

距离:间隙可设置在一个非常宽的范围内+/span>增量精度1M

软接??基材被带入非常柔软的机械接触曝光时的掩模。通过接触力可谂/span>软件设置

金属触点:?接触额外的氮气压劚/span>

真空接触:?真空级别控制接触力。真空度丹/span>由用户设?/span>

OAI Mask Aligners

Various Printing Modes

PROXIMITY:

? THE GAP IS SETTABLE OVER A VERY WIDE RANGE WITH AN INCREMENTAL PRECISION OF 1M

SOFT CONTACT:

? SUBSTRATE IS BROUGHT INTO VERY SOFT MECHANICAL CONTACT WITH THE MASK DURING EXPOSURE. THE CONTACT FORCE IS ADJUSTABLE VIA SOFTWARE SETTINGS

HARD CONTACT:

? CONTACT WITH ADDITIONAL N2 pressure VACUUM CONTACT:

? VACUUM LEVEL CONTROLS THE CONTACT FORCE. LEVEL OF VACUUM IS SET BY USER

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