微波等离子化学气相沉积系绞�/strong>-MPCVD

微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD）， 通过等离子增加前驱体的反应速率，降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体� MPCVD是制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国iplas公司� CYRANNUS? 等离子技术解决了传统等离子技术的局限，可以�?0mbar到室压范围内激发高稳定度的等离子团，减少了因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引起的等离子体状态的变化，从而确保单晶生长的持续性，为合成大尺寸单晶金刚石提供有力保证、�/span>

应用领域

� 大尺寸宝石级单晶钻石

� 高取向度金刚石晶佒�/span>

� 纳米结晶金刚矲�/span>

� 碳纳米管/类金刚石碳（DLC（�/span>

� MPCVD同样适用于其它硬质材料如Al2O3，c-BN的薄膜沉积和晶体合成、�/span>

MPCVD等离子化学气相沉积设备特�

1.CYRANNUS?技术无需在样品腔内安装内部电极，在沉积腔内，没有工作气体以外的任何物质，洁净，无污染源。等离子发生器可以保持长寿命，并可以确保腔内的等离子体的均匀分布，进一步生成晶体的纯净度和生长周期、�/span>

2.CYRANNUS?技术的腔外多电极设置，确保等离子团稳定生成于腔内中心位置，对腔壁、窗口等无侵蚀作用，减少杂质来源，提高晶体纯度。由CYRANNUS?系统合成的金刚石，纯度均在VVS级别以上、�/span>

3.电子温度和离子温度对中性气体温度之比非常高，运载气体保持合适的温度，因此可使基底的温度不会过高、�/span>

4.微波发生器稳定易控，能在�?0 mbar到室压的高压强环境下维持等离子体，在气流、气压、气体成分、电压出现波动时，确保等离子体状态的稳定，保证单晶生长的过程不被上述干扰而中断，有利于获得大尺寸单晶金刚石、�/span>

5.可以采用磁约束的方法，约束在等离子团在约定的空间内，微波结和磁路可以兼容、�/span>

6.安全因素高。高压源和等离子体发生器互相隔离，微波泄漏小，容易达到辐射安全标准、�/span>

7.可搭配多种功率微波源和不同尺寸腔体，满足从实验室小型设备到工业大型装置的不同需要。可以对直径达到300mm的衬底沉积金刚石薄膜、�/span>

化学机理概要 碳氢化合物：提供沉积材料 氢气：生成sp3�?/span> 氧：对石墨相/sp2键侵蚀 惰性气体：缓冲气体，或生成纳米晶体、�/span> 适用合成材料９�/span> 大尺寸宝石级单晶钻石 高取向度金刚石晶佒�/span> 纳米结晶金刚矲�/span> 碳纳米管/类金刚石碳（DLC（�/span>	金刚石薄膛�/span> 宝石级钻矲�/span> vvs1，~1 carrat� E grade

设备选件

多种等离子发生器选择９�/span> 频率�?.45 GHz� 915 MHz 功率�?-2 kW� 1-3 kW� 3-6 kW�?-6 kW�?-30 kW 等离子团直径�?0 mm� 145 mm� 250 mm� 400 mm 工作其他范围�?-1000 mBar
其他应用９�/span> MPCVD同样适用于平面基体，或曲面颗粒的其它硬质材料如Al2O3，c-BN的薄膜沉积和晶体合成。德国iplas公司凭借几十年在等离子技术领域的积累，可以为用户提供高度定制的设备，满足用户不同的应用需要、�/span>

发表文章

1. Use of optical spectroscopy methods to determine the solubility limit for nitrogen in diamond single crystals synthesized by chemical vapor deposition� Journal of Applied Spectroscopy� Vol. 82� No. 2� May� 2015 (Russian Original Vol. 82� No. 2� March–April� 2015).

2. Large Area Deposition of Polycrystalline Diamond Coatings by Microwave Plasma CVD. Trans. Ind. Ceram. Soc.� vol. 72� no. 4� pp. 225-232 (2013).

用户单位

中科院沈阳金属所

吉林大学