Focus Lock自动对焦功能

Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过Z向调整和补偿，以保证曝光分辨率、�/span>

光学轮廓�?/strong>

Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z�?*精度100 nm，方便快捷、�/span>

标记物自动识�?/span>

点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置、�/span>

直写前预检�?/span>

软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度，直到设计图形按要求与已有结构重合，保证直写准确、�/span>

简单的直写软件

MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行、�/span>

Clewin 掩模图形设计软件

? 可以读取多种图形设计文件（DXF� CIF� GDSII� 等）

? 可以直接读取TIFF� BMP 等图片格弎�/span>

? 书写范围只由基片尺寸决定

Microwriter ML3

基本垊�/strong>

增强垊�/strong>

旗舰垊�/strong>

**样品尺寸

155��155��7mm

155��155��7mm

230��230��15mm

**直写面积

149mm x 149mm

149mm x 149mm

195mm x 195mm

曝光光源

405 nm LED 1.5W

405 nm LED 1.5W

385 nm LED 适用于SU-8

�?65+405nm双光源可选）

直写分辨玆�/span>

1��m

1��m and 5 ��m

0.6��m� 1��m� 2��m� 5��m

直写速度

20mm²/min @ 1��m

20mm²/min @ 1��m

120mm²/min @ 5��m

25mm²/min @ 0.6��m

50mm²/min @ 1��m

100mm²/min @ 2��m

180mm²/min @ 5��m

对准显微镜镜夳�/span>

x10

x3 and x10 自动切换

x3� x5� x10� x20 自动切换

多层套刻精度

��1��m

��1��m

��0.5��m

*小栅格精�?/span>

200nm

200nm

100nm

样品�?小步镾�/span>

100nm

100nm

50nm

光学轮廓Z分辨玆�/span>

�?可升�?

300nm

100nm

样品表面自动对焦

�?/span>

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灰度直写(255�?

�?/span>

�?/span>

�?/span>

自动晶片检查工其�/span>

�?可升�?

月�/span>

月�/span>

温控样品腔室

�?可升�?

�?可升�?

月�/span>

气动减震光学平台

�?可升�?

�?可升�?

月�/span>

光刻胶上的图�

Au电极（SEM（�/span>

Au电极（SEM（�/span>

设计国�/span>

光刻胶上的图彡�/span>

放大图的显微结构