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脉冲激光沉积分子束外延系统
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优异的性能 PVD公司生产皃strong>脉冲激光沉积分子束外延系统在国内有较多用户,为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询、/p>

主腔室,样品传输腔,1100度加热系统,样品旋转,PLD靶材操控器及光路,K-cell热蒸发源,电子束蒸发源,射频RF离子溏/p>

PVD公司是美国主要制造商,是一家专业从事脉冲激光沉积分子束外延(PLD MBE)和超高真空薄膜沉积系统及组件的设计和制造的公司,提供超高真空薄膜沉积系统,应用于分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积。产品主要集中在小型研究开发系统,其应用主要包括:

用分子束外延进行半导体材料、ZnO、GaN、SiGe和金?氧化物外延生长;

UHV磁控溅射磁性薄膜;

脉冲激光沉积超导薄膜、氧化物和陶瓷材料、/p>

应用主要包括9/strong>

分子束外延系统(MBE(/p>

GaAs、InP和GaSb外延

HgCdTe外延

GaN、InN和AlN外延

?Ⅵ族外延

SiGe外延

Si/金属/氧化物外廵/strong>

超高真空物理气相沉积(PVD)系绞/p>

磁控溅射系统

脉冲激光沉积(PLD)系绞/p>

电子束蒸发系绞/p>

离子束沉积系绞/p>

热蒸发系绞/strong>

已经在全球范围内安装了超?00套的超高真空系统。绝大部分的产品都是针对用户定制设计复杂的沉积系统。在标准系统制造业中有着深厚的为用户定制设计的背景,在用户中具有很好的声誉。许多的标准系统*初都是起源于针对某些客户对沉积过程特殊需求的解决方案,与广大的中国用户开展更为广泛的交流与合作,为广大的中国用户提供国际顶尖PLD MBE和超高真空薄膜沉积系统制造商的产品和服务、/strong>

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