苏州锦业源自动化设备有限公司
已认?/p>
苏州锦业源自动化设备有限公司
在质量管理体系建设上再获佳绩
01
锦业源在ISO
首次年度监审中表现出艱/strong>
2024??9日至30日,ISO评审机构对锦业源进行了取证后的首次年度监审、/strong>
审核组通过现场观察、细致查阅文件和记录、与相关人员深入面谈交流等多种方式,对高层管理过程、服务提供过程及品质管控过程、体系支持及采购管理过程等多个重要方面进行了全方位的检查、/p>
经过一天半的严格审核,令人振奋的是,现场未发现严重不符合项及一般不符合项。审核组一致肯定,公司体系文件完备齐全,合同执行情况良好有序,客户满意度高:strong>现场审核结论为:推荐继续保持证书、/strong>
02
感恩过往,奋进未?/strong>
此次年审的顺利通过,不仅仅是对我们工作流程和管理体系的高度认可,更是对我们坚持不懈追求卓越精神的由衷赞扬、/span>
我们的团队深知,每一次的成功背后,都凝聚着全体员工的辛勤付出与无私奉献+strong>同时也离不开广大客户长期以来的坚定支持和充分信赖、/strong>
未来,我们将携手共进,始终如一地严格执行质量管理体系及各项规章制度,持续优化和规范公司的各项管理制度,不断提升服务质量和水平,以更加贴心、周到的服务全方位满足客户的需求,力争在管理层面实现新的跨越和突破?/strong>
我们坚信,苏州锦业源自动化设备有限公司必将拥有更加灿烂辉煌的明天?/p>
03
产品展示
氧化铝推板炉(HTCC)
设备特点9/strong>
1. 适用于大批量生产,从原料预烧到陶瓷产品的烧成,工艺稳定,一致性好、/p>
2. 温度控制方式为晶闸管自动电压调整,具有软起动、软关断、恒?恒压、限流及过流保护等功能、/p>
3. 实现全自动回转运行、采用PLC控制、产品运行可靠、/p>
4. 可根据产品在不同气氛条件下、各温度段,分别进行控制和调节、/p>
设备用途:
氧化铝基座的排胶、烧成;PTC的烧成;压电陶瓷的排胶、烧成;环形压敏电阻的排胶、烧成;MLCC-Ni基片的烧成;电子粉体的烧成;氧化铝陶瓷基板的烧成;Mn-Zn铁氧体陶瓷的排胶、烧成;Ni-Zn铁氧体陶瓷的烧成;Mn-Zn 基片的排胶、烧成;荧光粉的烧成;锂电池粉体材料的烧成;电池负极材料的烧成;磷酸铁锂的烧成、/p>
设备规格9/strong>
炉膛尺寸?00WX150HX21500Lmm
炉膛有效尺寸?00WX105HX21500Lmm
最高温度:1050ℂ/p>
常用温度?50ℂ/p>
加热功率:约350KW(其中炉膛加热功率312KW)
产品:LTCC多层陶瓷与铜金属
加热元件:板式金属丝发热佒/p>
箱式炈/strong>
设备规格9/strong>
用途:电子陶瓷基片的烧戏/p>
最高温度:1500ℂ/p>
炉膛有效尺寸:W320×L320×H400mm×4piles
炉膛气氛:空氓/p>
加热元件:MoSi2
氮化硅压力炉
设备用途:
氮化硅基板,氮化硅球以及结构件的烧结、/p>
设备特点9/strong>
1. 温度:max2400摄氏?/p>
2. 温度分布精度:R10
3. 发热体:石墨
4. 压力?Mpa
5. 气氛:N2环境,氧含量小于100ppm
氮化硅、氮化铝粉体量产?nbsp;
设备用途:
氮化硅、氮化铝、氮化硼等粉体量产烧结、/p>
设备特点9/strong>
1. 温度?300摄氏?/p>
2. 电力?5KW
3. 温度分布精度:R10
4. 发热体:石墨
5. 压力:微正压
6. 气氛:N2环境,氧含量小于100ppm
最新动?/p>更多