www.188betkr.com 讯 原子层沉积(Atomic Layer deposition, ALD)技术是化学气相沉积法(CVD)的一种,最初是由芬兰科学家提出并用于多晶荧光材料ZnS、Mn以及非晶 Al2O3绝缘膜的研制,这些材料用于平板[更多]
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