单一磨料

推荐CMP抛光液中，SiO2磨料的分散稳定性很重要！

www.188betkr.com 讯 抛光液中磨料的作用主要是在晶圆和抛光垫的界面之间进行机械研磨，以确保CMP过程中的高材料去除率。同时，磨料也是影响抛光液稳定性的重要因素之一。众多磨料中，SiO2磨料因其低黏度和低硬度的特性被广泛应用于CMP领[更多]