• 208C高真空镀碳仪丹�/span>SEM�?/span>TEM�?/span>STEM�?/span>EDS/WDS�?/span>EBSD和微探针分析提供高质量的镀膜技术。系统结构紧凑，所占空间小。样品室直径150mm，可快速抽真空进行镀膜处理，处理周期�?/span>10分钟。高真空条件下使用超纯的碳棒为严格的高分辨扫描电镜、透射电镜�?/span>EBSD及探针分析提供高质量的镀膜处理、�/span>.组件设计方式可方便地对不同优化条件下的各种应用进行切捡�/span>

主要特�?/span>

• 电压控制的碳棒具有多次蒸发能劚�/span>

• 反馈控制可以得到准确一致的镀膜厚�?/span>

• 可选择操作方法优化镀膜过稊�/span>

• 繁忙条件下可进行自动蒸发控制

• 低成本高分辨膜厚监测仪保证可重复的镀膜效枛�/span>

• 80L/s的分子涡轮泵可快速地使直徃�/span>150mm的样品室达到镀膜要求的真空

• 可配备无油涡旋式真空泵选件

1. 可通过以下方式节约成本：无须水冷却系统

2. 无须加热或冷即�/span>

3. 无须液氮

4. 制样周期�?/span>

5. 节省空间

碳蒸发控刵�/span>

• 208C对碳棒－Bradley型碳蒸发源使用独特的完全集成的反馈控制设计、�/span>

• 电流和电压通过磁控头的传感线监控，蒸发源作为反馈回路中的一部分被控制。该蒸发装置使常规的碳棒具有优良的稳定性和重现性。功率消耗低，碳棒具有异常的重新蒸镀特性、�/span>

• 蒸发源使用两步超纯碳棒、�/span>

• 蒸发源可以手动“脉冲”或“连续”的方式进行镀膜。“脉冲”方式如果和MTM-10高分辨膜厚监测仪一起使用，可以准确得到所需要的膜厚。自动方式下的操作非常方便，操作者只要设定电压和时间，可以得到一致的镀膜效果、�/span>

208C样品宣�/span>

• 样品室的组件设计方式可适应多种附件使用、�/span>

• 通过简单调节工作距离，可方便地调节蒸发速率、�/span>

• 独特的标准化髗�/span>/低真空压力调节通过精密针阀完成、�/span>

• 高真空用�?*质量地镀膜，如用亍�/span>TEM制样、�/span>

• 低真空用亍�/span>TEM栅网的辉光放电清洁以及扫描电镜观察中形貌复杂样品的镀膜、�/span>

• 对于SEM�?/span>EDS/WDS和探针分析，旋转－行星转动－倾斜样品台可对同时多个样品进行一致的镀膜处理、�/span>

• 旋转－倾斜台特别为TEM样品处理设计，而且可以放置25 x 75mm的玻片、�/span>

技术参�?/span>
样品室大導�/span>	直径150mm、高�?/span>165mm - 250mm可调
蒸发溏�/span>	Bradley垊�/span>(6.15mm直径rods)，高强度不锈钢结枃�/span>
蒸发控制	基于微处理器的反馈回路控制，能够进行远程电流/电压感应，基于真空水平变量的安全互锁功能�?*电流180A，提供过流保抣�/span>
样品�?/span>	可安裄�/span>12个扫描电镜样品座 高度�?/span>60mm范围内可谂�/span> 旋转－行星转动－倾斜样品台（选件（�/span>
模拟计量	真空�双范図�/span>Atm，�/span>0.001mb：�/span>1 x 10-3mb，�/span>5 x 10-6mb电流� 0 - 200A
控制方法	自动蒸发控制，使用程序设定的电压和时间，自动放气 以脉冲或连续方式进行完全手动控制 数字定时器（0，�/span>30s（�/span> 数字电压设置＇�/span>0.1 to 5.5V（�/span>
真空系统
结构	分子涡轮泴�/span>/旋片泵组合，无油涡旋式真空泵（选件（�/span>
抽真空速度	80 L/s.
抽真空时闳�/span>	1.5 min臲�/span>1 x 10-4mb
极限真空	5 x 10-6mb
桌上系统	旋片泵可置于抗震台上，全金属真空耦合系统
系统要求
电源	100-120戕�/span>200-240 VAC� 50/60Hz
功率	1200 VA max.