仪器简介：

专业的PLD脉冲激光沉积系绞�/strong>（基片尺�?#934;2inch� 4inch� 6inch� 8inch、or flexible tape）供应商，凭借多年的娴熟的经验、雄厚的研发实力和生产能力，为不同客户提供专业脉冲沉积系统方案和优质的技术服务；并且已经被众�?*高校、研究所和R&D企业所采用、�/p>

同时也为客户提供同类设备９�/p>

大面积电子束沉积系统：沉积区�?0mmx200mm，适合金属、绝缘材料和介电材料等沉积；

大面积溅射系统：沉积区域Max 75mm(W) x 310mm(L)，适合金属、半导体、绝缘材料和介电材料等沉积；

小型化溅射台�?#966;１inch�?#966;２inch基片，价格优惠，特别适合高校研究使用：�/p>

技术参数：

基片尺寸�?#934;2inch� 4inch� 6inch� 8inch、or flexible tape material applied：�/p>

靶尺寸：Size ��1”inch to ��８inch：�/p>

靶数量：up to 6pcs：�/p>

基片加热� up to 900℃；

真空度：5x10-5 Pa�?On request�?x10-6 Pa or less) ：�/p>

主要特点９�/strong>

靶Swing功能：�/p>

激光束扫描功能：�/p>

配备准分子激光器：�/p>

可选功能：Load Lock Chamber

RHEED分析功能

多功能系统：Comibination with Sputter gun，Electron beam、IBAD