MPCVD主要用于合成石墨烯薄膜和各种碳纳米材料，有一个水平石英管式炉。一个催化剂衬底(通常是铜铝箔)放置在炉釋�span>＋�/span>甲烷气体或乙炔气体从外部低流量和低压地注入，在催化剂的衬托上形成石墨烯薄膜、�/span>

快速冷却对于形成高质量的石墨烯薄膜非常重要，快速冷却可以抑制碳过量的沉积在催化剂金属箔三�/span>(如铜或镍箓�/span>)：�/span>系统配备了快速冷却系统。管式炉向一侧滑�?span>30mm到反应炉，加热的炉可以远离样品，从而快速冷却样品。通过非常简单的方式达到快速冷却的效果、�/span>

联合日本科学与技术研究所＇�span>JST）开发，并且在多个国家注册了该项技术的**�?/strong>

主要特点９�/strong>

1）快速加热和制冷功能：�/p>

2）管式炉滑动装置，可使得样品快速加热和冷却：�/p>

3）特殊设计的测温传感器，可直接监测样品温度；

4）支持生长其他各种碳纳米材料（碳纳米管、碳纳米线等）；

技术指标：