所谓光掩膜是微电子制造领域中光刻工艺所使用的图形母版，是由不透光的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形（Mask Pattern），并通过曝光将图形转印到产品基板之上、�img src="//www.znpla.com/img1/img/daily/2024/11/28/163120_075594_procont.png" title="163120_075594_procont.png" alt="玻璃1.png"/>

掩模版的主要应用于以下领域：

IC（Integrated Circuit，集成电路）

尤其是LSI（Large Scale IC，大规模集成电路）包括Wafer制程及IC Bumping筈�/span>

FPD（Flat Panel Display，平板显示器）包括PDP、LCD、LED、OLED筈�/span>

PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板（�/span>

MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统（�/span>