SPS 光刻� POLOS ��

为�/strong>要特征：

1、写入分辨率低至2 ��m

2、可调整的写作领域和具有可互换目标的解决方案

3、与CAD文件或位图图像兼宸�/p>

4、与g线光刻胶兼容

5、兼容多种基材（硅，玻璃，金属，塑料等）

6、兼容任何样品尺寸达4英寸的晶�

7、相机反馈以进行对准步骤

8、由于没有硬掩模，节省了时间�?*

9、将设计直接覆盖在样品上的直观对齐方泔�/p>

10、占地面积小的桌�

11�?/span>非常适合微电子，2D材料，微流体，光电，opty或任何其�?D微加工应用的技�?/p>

规格参数９�/strong>

1�?/span>光源曝光�?35 nm� 对准�?25 nm

2�?/span>*小特征尺寸：2�?3 ��m可调

3�?/span>对准分辨率：低至1 ��m / cm2

4�?/span>**曝光面积�?5 x75 mm2

5�?/span>基板尺寸�?*4”晶圅�/p>

6�?/span>系统尺寸：W：（36厘米）； D：（36厘米（� 高：�?0厘米（�/p>

7�?/span>多合一PC：Win 10�?4英寸全高�

8�?/span>SFTprint软件：机器控制，步进重复，自动剂量测试，缝合，对�

9�?/span>SFTconverter：将标准格式（gdsii，dxf，cif，oas）转换为位图图像� 随附的CAD软件