装置概述

本装置是催化剂预处理装置，拥有四个气路，两套独立的气路控制单元，加热炉安装在装置的左右两侧，选用精密的控制仪表，使得装置具有控温精度高、可靠性高、操作简便、结构紧凑的特点。该装置可用于催化剂预处理，包括还原、氧化、碳化、硫化、氮化等，也可用于复合材料的后处理、�/span>

技术参�?/span>

-　气路�?-4（任选）：�/span>

-　加热炉：1-2（任选），加热炉温度Max�?200 ℃；

-　气体质量流量器：0 � 500 mL/min（任选）：�/span>

-　工作压力：常压；

-　温度控制�?#177; 0.5 ℃；

-　计算机控制（任选）、�/span>