仪器简介：

此产品广泛应用于：半导体、纳米材料、钠米科技、薄膜材料、薄膜沉积以及航空航天领域�

PICOSUN公司是一个国际化的设备制造商，在全球有销售和服务机构.我们开发和制造原子层沉积反应器用于微米和纳米技术应用。PICOSUN为客户提供用户友好，可靠及多产的ALD工艺工具，提供从研发到生产的工业放大。PICOSUN基地在芬兰的espoo，美国总部在Detroit。SUNALE型ALD工艺工具被用于欧州、美国及亚洲前沿的科学机构、公司�

PICOSUN拥有30多年在芬兰ALD反应器制造而得到的专业技术。Tuomo Suntola博士，于1974年发明了ALD技术，是PICOSUN董事会的成员。我们的**技术官SVEN LINDFORS�?975年开始连续的设计ALD系统。综合起来讲，PICOSUN拥有�?00多年的ALD经验并贡献了100多项ALD**。我们悠久的历史和广泛的背景使PICOSUN成为ALD技术优质的合作伙伴、�/p>

技术参数：

技术指�

SUNALE? R系列技术特�

基本特点�

晶片尺寸 2-6”， 50-150 mm (8’� = 200 mm on request)

工艺温度 Up to 500��C

反应室体� 小型、中型、大�

反应室材� 316 SS� Ti� Ni� Al (quartz)

前驱� 2-6 气体 / 气体 / 固体

基片装载 气体升降

尺寸�

尺寸 27.6 x 41.3 x 36.4’’， 70 x 105 x 92.5 cm (W x H x D)

重量 200 kg

工况�

电源 100-240 V� 50/60 Hz� 1- or 3-phase� 3.7 kW Vac

真空� 30-80 m3/h

载气 99.999 % N2 / Ar� min. 2 slm

压缩空气 4-5.5 bar 过压

冷却� 反应器不需�

排气 为真空泵及源橱柜配备

样品装载选项�

Picoloader?手动样品装载系统，带一个预真空室和闸阀

主要特点９�/strong>

特点

多功能的反应器设�

全套的服加�/p>