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Advance Riko RTP-快速退火炉
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产品简今/div>
退火温度均匀性:

±2.0ℂ/p>

退火温度准确性:

±2.0ℂ/p>

降温速率9/td>

30?s

**升温速率9/td>

50?s

温度范围9/td>

室温~1200ℂ/p>

样品尺寸9/td>

2英寸

产地类别9/td>

进口

仪器种类9/td>

高真空快速退火炉

价格区间9/td>

10?30丆/p>



快速热处理'/span>RTP)已经成为半导体、铁电体以及镀膜行业的重要退火技术。但是目前,只有大型的、昂贵的生产设备才能完成快速热处理,这大大降低了研发工作的效率(尤其是小的样品)。为了满足市场的需求,ADVANCE RIKO研发出MILA-5000系列的小型快速退火炉。此系列的设备包含红外金面反射炉和高精度的温度控制器。根据需求选配相应的泵和气体接口,MILA能提供与大型RTP设备相同的热处理性能、/span>

特点9/span>

l快速加热及冷却能力:/span>

l可在任意气氛中使用;

l实时观测试样:/span>

l精确的温度控制;

型号

MILA-5000Series

温度范围9/span>

室温~1200ℂ/span>

加热功率9/span>

50?s?0~1200℃)真空

45?s?0~1200℃)氮气氛围

温度均匀性:

±2.0℃(ΔT=4℃)1200℃真穹/span>

±4.5℃(ΔT=9℃)1200℃氮气氛図/span>

加热气氛:

大气、真空、惰性气氛环境下

试样尺寸:

MAX?0 square or φ 50 x T5 (mm)

程序模组9/span>

温度VS时间设定、Step?56、Program?2(Max);

PID+Fuzzy控制、自动微调、USB通讯、自?手动切换:/span>


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