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凯戈纳斯仪器商贸(上海)有限公司
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产品简今/div>
红外金面反射炉应用于科研和生产当中,RHL-E系列红外金面反射炉具备加热速度快,温度范围宽等特点、/span>
应用9/span>
硅、半导体复合材料的快速退火;
可用作玻璃和陶瓷材料的退火炉:/span>
可用作金属退火炉:/span>
复合材料的耐热性评价炉:/span>
高温膨胀/收缩测试炉;
特点9/span>
椭球型反射面可以快速加热到高温:/span>
仪器参数9/span>
型号 |
RHL-E25P |
RHL-E210P |
RHL-E45P |
RHL-E48 |
RHL-E410P |
RHL-E416 |
温度范围 |
RT to 1300 °C |
RT to 1300 °C |
RT to 1400 °C |
RT to 1400 °C |
RT to 1400 °C |
RT to 1400 °C |
加热腔尺寷/span> |
φ 7 mm x |
φ 7 mm x |
φ 10 mm x 40 mm |
φ10 mm x |
φ10 mm x |
φ10 mm x |
应用 |
该反射炉需配备水冷系统:/span> **的温度变化会根据样品材料和加热腔的大小不同; 加热区域是一个参考值; |
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