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Advance Riko 红外金面快速退火炉RHL-P series
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红外金面反射炉应用于科研和生产当中，RHL-P系列红外金面反射炉具备加热速度快，温度范围宽等特点、/span>

应用９/span>

  • 硅、半导体复合材料的快速退火；

  • 可用作玻璃和陶瓷材料的退火炉：/span>

  • 可用作金属退火炉：/span>

  • 复合材料的耐热性评价炉：/span>

  • 高温膨胀/收缩测试炉；

特点９/span>

抛物型反射面可以使平行的红外灯管提供一个更均匀的加热区域；

仪器参数９/span>

型号

RHL-P410C

RHL-P65C

RHL-P68C

RHL-P610C

RHL-P616C

RHL-P810C

温度范围

RT to 1350 °C

RT to 1200 °C

RT to 1200 °C

RT to 1200 °C

RT to 1200 °C

RT to 1100 °C

加热腔尺寷/span>

φ 20 mm x
80 mm

φ 40 mm x
40 mm

φ 40 mm x

60 mm

Φ40 mm x
80 mm

Φ40 mm x
130 mm

Φ50 mm x
80 mm

应用

该反射炉需配备水冷系统：/span>

温度变化会根据样品材料和加热腔的大小不同：/span>

加热区域是一个参考值；


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